附注
本小类中，若无相反指示，则分类分入最后适当位置。〔2〕

C25F  1/00电解法清理、除油、强浸蚀或除氧化皮〔2〕
C25F  1/02·强浸蚀；除氧化皮〔2〕
C25F  1/04··在溶液中〔2〕
C25F  1/06···铁或钢的〔2〕
C25F  1/08···难熔金属的〔2〕
C25F  1/10···锕系金属的〔2〕
C25F  1/12··在熔融液中〔2〕
C25F  1/14···铁或钢的〔2〕
C25F  1/16···难熔金属的〔2〕
C25F  1/18···锕系金属的〔2〕

C25F  3/00电解浸蚀或抛光〔2〕
C25F  3/02·浸蚀〔2〕
C25F  3/04··轻金属的〔2〕
C25F  3/06··铁或钢的〔2〕
C25F  3/08··难熔金属的〔2〕
C25F  3/10··锕系金属的〔2〕
C25F  3/12··半导体材料的〔2〕
C25F  3/14··局部的〔2〕
C25F  3/16·抛光〔2〕
C25F  3/18··轻金属的〔2〕
C25F  3/20···铝的〔2〕
C25F  3/22··重金属的〔2〕
C25F  3/24···铁或钢的〔2〕
C25F  3/26···难熔金属的〔2〕
C25F  3/28···锕系金属的〔2〕
C25F  3/30··半导体材料的〔2〕

C25F  5/00金属层或金属覆层的电解褪除〔2〕

C25F  7/00从物体上电解除去材料用电解槽的构件，或其组合件（用于电镀及褪镀者入C25D）；维护或操作〔2〕
C25F  7/02·处理液的再生〔2〕