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专家解读 | 我国集成电路布图设计保护制度的重大修改

2026-08-06
——黄蕴华 国家工业信息安全发展研究中心知识产权所

近日,国务院公布了新修订的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),这是《条例》20多年来的首次系统性修订。修订内容主要涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等多方面。其中,最为重要的修改内容便是扩展保护范围,将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入《条例》法定保护范围,破解新型集成电路知识产权保护难题。

李强签署国务院令

2026-08-06
——公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》

国家知识产权局在国新办新闻发布会上介绍“十五五”知识产权工作目标

2026-08-06
——确保到2030年知识产权强国建设取得决定性进展

UPC上诉法院取消口头审理:小米与Nera Innovation专利纠纷走向何方

2026-08-06
一、最新进展:口头审理取消,双方联合申请中止程序
统一专利法院上诉法院于2026年7月13日发出裁定,中止了源自汉堡地方分庭2025年7月10日裁决的两起上诉案件。两起上诉均涉及EP2642632号专利(“无线功率接收器及其制造方法”):其一为Nera Innovation(Atlantic IP旗下专利运营公司NPE)针对汉堡地方分庭认定不侵权所提起的上诉,其二为小米针对无效反诉裁决所提起的交叉上诉。原定于2026年7月16日举行的口头审理随即取消。

全省高校知识产权工作现场推进会在杭召开

2026-08-06
7月31日上午,由省市场监管局(省知识产权局)、省教育厅共同主办的全省高校知识产权工作现场推进会在杭州电子科技大学召开。会议深入学习贯彻习近平总书记关于高等教育发展、知识产权工作的重要论述精神和党中央及国家科技“三会”决策部署,紧扣省委十五届九次全会部署要求,锚定高等教育强省和知识产权强省建设目标,以更大力度推动高校全面提升知识产权工作水平,更强支撑推动创新浙江建设全面成势。
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